Thesera A+ Epidermis Balance Foam
Hypoalergenní peeling: Peelingová pěna s bublinkami odstraňující nečistoty a maz.
Kategorie: | Produkty |
---|---|
? Typ pleti: | Normální, Citlivá a suchá, Problémová (akné), Rozšířené póry, Kuperóza a rosacea, Pigmentové skvrny, Vrásky |
? Typ produktu: | Peeling |
? Určené na: | Obličej, Krk/dekolt |
Thesera: |
Přírodní kyselé přísady snadno odstraňují odumřelé buňky bez podráždění pokožky.
- Kyselina glykolová: 10% kyseliny glykolové je v Balance Foam. Pomáhá odstraňovat kožní maz a odumřelé buňky bez podráždění pokožky.
Čistá pleť s jasem: Rozjasňuje a dodává pokožce hladkou strukturu odstraněním starých odumřelých buněk.
- Lycium barbarum extrakt z ovoce: Posiluje imunitu pokožky, rozjasňuje pokožku inhibicí tyrosinázy, která pomáhá melanogenezi.
- Extrakt z borůvek: revitalizuje unavenou pokožku složkami antokyanů, fenolu, fytochemikálií atd.
Ochrana kožní bariéry před škodlivým prostředím odstraněním nečistot, kožního mazu, odumřelých kožních buněk a nečistot v pórech
- Extrakt z ovoce Euterpe oleracea: Chrání pokožku před oxidací a uvolňuje problémovou pokožku
- Vaccinium Macrocarpon (Cranberry) ovocný extrakt: Antokyan odstraňuje volné kyslíkové radikály, které jsou zodpovědné hlavně za stárnutí.
Bohaté a jemné bubliny odstraní odumřelé kožní buňky, kožní maz, nečistoty bez podráždění a osvěží pokožku.
Použití:
Naneste správné množství na obličej a jemně otřete. Opláchněte studenou vodou.
- Normální, citlivá pokožka: Používejte jednou týdně.
- Aknózní pokožka: Používejte dvakrát týdně.
Doba aplikace by měla být kratší než 3 minuty.
TIP: pokud máte akné na zádech můžete aplikovat i na tato místa.
Obsah:
200 ml
Složení:
WATER, GLYCOLIC ACID, DISODIUM COCOAMPHODIACETATE, TROMETHAMINE, CAPRYLYL GLYCOL, BENZYL GLYCOL, BUTOXYDIGLYCOL, RASPBERRY KETONE, 1,2-HEXANEDIOL, BUTYLENE GLYCOL, LYCIUM BARBARUM FRUIT EXTRACT, VACCINIUM ANGUSTIFOLIUM FRUIT EXTRACT, EUTERPE OLERACEA FRUIT EXTRACT, PHYLLANTHUS EMBLICA FRUIT EXTRACT, VACCINIUM MACROCARPON FRUIT EXTRACT, WATER, 1,2-HEXANEDIOL.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.